Opis produktu
Pompa podwodna dla przemysłu chemicznego z serii HYF to pionowa jednostopniowa pompa odśrodkowa. Do transportu cieczy korozyjnych, które nie zawierają cząstek stałych i nie są łatwe do krysztalizowania (specjalne dostosowanie do transportu śladowych cieczy krysztalizujących). Temperatura nośnika transportowanego jest od 20 ° C do 150 ° C. Część robocza pompy pod cieczem jest zatopiona w cieczy. Zamknięcie osi nie ma wycieku. Zajmuje niewielką powierzchnię, niezawodne użycie, wygodne naprawy, wysoka odporność na korozję i inne cechy. Szeroko stosowane w przemyśle chemicznym, farmaceutycznym, papierniczym i naftowym.